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高純度アルミニウム基板のための半導体グレードのクリーンコンポーネント硫酸アノイド化ライン

高純度アルミニウム基板のための半導体グレードのクリーンコンポーネント硫酸アノイド化ライン

ブランド名: MEL-AL
モデル番号: MEL-AL-1018
MOQ: 1セット
価格: Customized Price
梱包の詳細: 標準梱包
支払い条件: LC、T/T
詳細情報
起源の場所:
佛山市、中国
制御電力:
AC220V 50Hz
ハイライト:

半導体級の硫酸アノイド化ライン

,

高純度アルミニウム基板アノードライン

,

クリーンコンポーネントアノイド化生産ライン

製品説明
高純度アルミニウム基板のための半導体グレードのクリーンコンポーネント硫酸アノイド化ライン
概要

この完全自動クリーンタイプ硫黄酸アノイド化ラインは 高純度アルミ半導体部品専用で設計されていますメタリック塩染料汚染なしで均質な8~15μmの天然透明酸化フィルムを生成します線は,厳格な半導体清潔性と排気要求を満たすために,熱水密封または中温のニッケルフリー密封をサポートします.

テクニカル仕様
ポイント パラメータ
適用可能な作業用品 半導体のクリーンな部品,高純度アルミニウム基板
アノード型 低汚染硫酸装飾用アノジス
オキシドフィルムの厚さ 8〜15 μm
表面の外観 自然の透明な仕上げ (金属塩の色付けなし,イオン汚染リスクゼロ)
密封するオプション 熱水密封/中温のニッケルのない密封
動作モード 完全に自動でクリーンなアノイド化ライン
清潔度管理 低イオン浴剤 専用クリーン循環&フィルタリングシステム
主要 な 制限 重金属の汚染を避けるために染料処理は禁止
プロセスの流れ
  1. 脱脂 (表面活性物質が少ないクリーン脱脂)
  2. 多段階の清水洗浄
  3. 軽度のデムート処理
  4. 高純度硫酸アノード化
  5. 超純粋な水で連続洗浄
  6. 密封:熱水密封 / 中温のニッケルのない密封
  7. 純水で最終洗浄
  8. 制御された低温乾燥
主要 な 利点
  • 完全自動運転モードは,各セットで8〜15μmの範囲で一貫したフィルム厚さを保証します.
  • 半導体の性能に影響を与えるイオン汚染を防ぐために金属塩染料は排除されます
  • 半導体産業の環境基準と排出ガス基準を満たす,ニッケルフリーシールソリューションをサポートします.
  • 高精度連続フィルタリングと超純水供給装置で 浴室の清潔さを保つ
  • 厳格 に 制御 さ れ て いる 洗浄 流水 は,残留 の 酸 と 異物 粒子 の 移転 を 最小 に する
支援装置
  • 前処理タンクグループ
  • 高純度硫酸アノイド化タンク
  • 多段階UPW洗浄システム
  • 密封タンク (熱水/ニッケルのない中温密封)
  • 直流アノジス直流器
  • 高精度循環フィルターシステム
  • 低温乾燥炉を清潔にする
  • 廃棄物ガスと排水処理装置
  • PLC自動ゲントリークレーンと中央制御システム
よく 聞かれる 質問
Q1: 半導体アルミニウム部品の金属塩色はなぜ禁止されているのですか?

染料からの金属イオンはオキシド膜内に留まり,半導体組件にイオン移動,汚染,信頼性リスクを引き起こす可能性があります.自然透明性のあるアノダージが採用されます.

Q2: ニッケルのないシールと従来のニッケルを含むシールとの違いは何ですか?

中気温のニッケルフリーシールによりニッケルイオン残留は避けられ,低排出ガスと重金属のない表面の半導体要件を満たす.

Q3: 小批量試験生産に利用可能ですか?

主な構成は大量生産のための完全自動;半自動/手動クリーンモジュールは,サンプル注文のオプションアップグレードとして提供することができます.

カスタマイズされたレイアウトデザインと引上げのために私たちと連絡してください.